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研究人才詳細資料

本頁面僅呈現 本會補助計畫,不含其他部會或跨部會計畫


年度 補助類別 學門代碼 計畫名稱 擔任工作 核定經費(新台幣)
115 專題研究計畫 (一般研究計畫) 電漿-實驗 探測雷射驅動質子加速器和硼氫核融合的電漿密度與溫度分佈之研究 計畫主持人 2,476,000
115 專題研究計畫 (一般策略專案計畫) 其他及跨領域物理 雷射輔助之硼氫高溫電漿(2/2) 共同主持人 12,640,000
114 專題研究計畫 (一般策略專案計畫) 其他及跨領域物理 雷射輔助之硼氫高溫電漿(1/2) 共同主持人 12,473,000
113 延攬科技人才 (延攬博士後研究人才) 電漿-實驗 超短超強雷射與近臨界密度電漿交互作用之研究 計畫主持人 230,202
113 專題研究計畫 (新進人員研究計畫) 電漿-實驗 超短超強雷射與近臨界密度電漿交互作用之研究 計畫主持人 5,245,000
113 專題研究計畫 (一般策略專案計畫) 電漿-實驗 雷射輔助之硼氫高溫電漿(2/2) 共同主持人 10,176,000
112 專題研究計畫 (一般策略專案計畫) 電漿-實驗 雷射輔助之硼氫高溫電漿(1/2) 共同主持人 9,935,000
111 專題研究計畫 (新進人員研究計畫) 電漿-實驗 利用特製電漿結構技術發展飛秒粒子與光子源 計畫主持人 7,853,000
100 補助赴國外從事博士後研究(甲類) 電漿、非線性、流體及統計物理-實驗 強場雷射電漿物理的研究及其應用 (核定/其它) 計畫主持人 1,300,000
095 研究生出席國際會議 物理 雷射與光電學術研討會 計畫主持人 27,000